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实 验 室 分 布

 

实 验 室 分 布 平 面 图

新实验大楼洁净室图

现实验用房分布一览表

房间号 房间名称 备注
209 实验室办公室 办公室
217 综合实验室 学生科研、创作等
218 开放实验室(1)  
214、216 开放实验室(2)  
301 光电技术与信息实验室(一) 光电探测器实验、半导体激光特性及调制特性
302 近现代物理基础实验室(一) 傅立叶光学实验初步
303 近现代物理基础实验室(二) 氢原子的发射光谱
304 近现代物理基础实验室(三) 塞曼效应
305 光电技术与信息实验室(二) He-Ne激光器的纵模、横模分析与测量
306 光电技术与信息实验室(三) 全息光栅、图象加减、图象微分、角度复用
307 近现代物理基础实验室(四) 光谱用读谱仪、比长仪等
308 暗房  
309 实验准备室(三) 准备室
310 实验准备室(二) 准备室
311 光电技术与信息实验室(四) 简单光纤链路、双向耦合器
312、314 光电技术与信息实验室(五) 电光调制、声光调制、磁光调制
313 近现代物理基础实验室(五) 核磁共振
315 近现代物理基础实验室(六) 微波基础、顺磁共振
316 近现代物理基础实验室(七) 夫兰克-赫兹实验、太阳能电池实验
401 光电材料与器件实验室(一) Sol-Gel法制备铁电薄膜的工艺实验
半导体工艺基础(二)
402 光电材料与器件实验室(二) 半导体工艺基础(三)
403 光电材料与器件实验室(三) 原子力显微镜表征纳米材料结构性能
404 光电材料与器件实验室(四) 高温CVD法制备硅纳米线
ZnO纳米线制备
磁控溅射方法制备Cu薄膜
薄膜设计与制备
半导体工艺基础(一)
ICP化学气相沉积法制备薄膜刻蚀薄膜方法
ICP化学气相沉积法制备纳米硅薄膜
ICP系统刻蚀实验
405 光电材料与器件实验室(五) 电子材料实验室办公室
407 设备材料库房 库房
408 实验准备室(四) 准备室
409、411 机房 专业实验室机房
410、412 近现代物理基础实验室(八) 传感器实验、PLC实验
413、415 电子技术实验室 模电、数电实验

 

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